Hydrogen-Bonding in Amorphous-Silicon with Use of the Low-Pressure Chemical-Vapor-Deposition Technique / Amato, Giampiero; G, Dellamea; G, Fizzotti; F, Manfredotti; C, Marchisio; R, Paccagnella. - In: PHYSICAL REVIEW. B, CONDENSED MATTER. - ISSN 0163-1829. - 43:(1991), pp. 6627-6632.
Hydrogen-Bonding in Amorphous-Silicon with Use of the Low-Pressure Chemical-Vapor-Deposition Technique
AMATO, GIAMPIERO;
1991
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