Plasma deposition of amorphous SiC:H,F alloys from SiF4-CH4-H-2 mixtures under modulated conditions / Cicala, G; Capezzuto, P; Bruno, G; Schiavulli, L; Amato, Giampiero. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 79:(1996), pp. 8856-8858.
Plasma deposition of amorphous SiC:H,F alloys from SiF4-CH4-H-2 mixtures under modulated conditions
AMATO, GIAMPIERO;
1996
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